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武汉一专利从申请到授权仅用了6天

发表于:2021-05-12 21:40:42 阅读: 来源:源智知识产权

  武汉持续改善营商环境,专利申请再提速。11日,长江日报记者获悉,武汉精测电子集团股份有限公司及其子公司提交的一项外观设计专利,从专利申请到授权仅用了6天时间,创下武汉专利申请最快速度。

  据悉,专利的快速授权,得益于中国(武汉)知识产权保护中心最新开通的外观设计专利预审服务。

  专利分为发明专利实用新型专利和外观设计专利。就在4月底,中国(武汉)知识产权保护中心启动常态化受理外观设计专利预案申请,从而在光电子信息产业领域实现了三种类型专利快速预审服务的全覆盖。

  据介绍,武汉精测电子为半导体、显示以及新能源等测试领域提供产品及服务。企业的一种新产品即将面市,急需申请外观设计专利,没有专利保护,一旦上市,可能面临产品外观的大量仿冒。

  在武汉东喻专利代理事务所的帮助下,这件外观设计专利申请经中国(武汉)知识产权保护中心预审合格后,4月25日向国家知识产权局提交申请,4月30日就获得了国家授权发文,前后仅用6天时间。

  据最新数据,外观设计专利平均审查周期为4个月左右,相比之下,经保护中心预审服务的外观设计专利,审查周期大大缩减,从120天缩短至6天。

  据了解,中国(武汉)知识产权保护中心组建于2018年4月,承担着国家知识产权局赋予的知识产权快速审查、快速确权、快速维权等公共服务,是知识产权服务地方优势产业和经济发展的重要国家级平台。

  目前,武汉光谷已发展成为全国最重要的光电子产业基地。686家光电子信息领域企事业单位进入保护中心快速审查主体备案库,包括武汉大学、华中科技大学等知名高校,以及武汉华星光电、烽火通信、长江存储等领军企业。

  中国(武汉)知识产权保护中心相关负责人介绍,保护中心的主要职能之一,就是对光电子领域的专利提供预审服务,经过预审的专利材料,修正了不足,避免了漏洞,更加规范完善,再到国家知识产权局审核时,速度更快。

  近年来,武汉积极推进中国(武汉)知识产权保护中心这一国家级平台建设,极大缩短了光电子信息领域创新成果专利授权周期,审查周期整体压缩了70%,为助力光电子信息产业高质量发展、打造全国一流营商环境提供了有力支撑。

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